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顯微鏡樣品二維平臺(tái)轉(zhuǎn)移四軸可調(diào)襯底載物臺(tái)
簡(jiǎn)要描述:

顯微鏡樣品二維平臺(tái)轉(zhuǎn)移四軸可調(diào)襯底載物臺(tái)是核心組件之一,其設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)樣品在二維平面內(nèi)的精準(zhǔn)定位與角度調(diào)整,同時(shí)可能集成加熱、傾斜調(diào)節(jié)等功能,以滿足二維材料轉(zhuǎn)移、異質(zhì)結(jié)制備等高精度實(shí)驗(yàn)需求。

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  • 更新時(shí)間:2025-07-04
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顯微鏡樣品二維平臺(tái)轉(zhuǎn)移四軸可調(diào)襯底載物臺(tái)

顯微鏡樣品二維平臺(tái)轉(zhuǎn)移四軸可調(diào)襯底載物臺(tái)是核心組件之一,其設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)樣品在二維平面內(nèi)的精準(zhǔn)定位與角度調(diào)整,同時(shí)可能集成加熱、傾斜調(diào)節(jié)等功能,以滿足二維材料轉(zhuǎn)移、異質(zhì)結(jié)制備等高精度實(shí)驗(yàn)需求。以下從結(jié)構(gòu)功能、技術(shù)參數(shù)、應(yīng)用場(chǎng)景、選型建議四個(gè)方面進(jìn)行詳細(xì)分析:


一、結(jié)構(gòu)功能解析

四軸可調(diào)襯底載物臺(tái)通常由以下部分組成:

1.XY軸平移機(jī)構(gòu)

通過測(cè)微絲桿或電機(jī)驅(qū)動(dòng),實(shí)現(xiàn)樣品在水平面內(nèi)的直線移動(dòng),行程一般在10-25mm之間,分辨率可達(dá)微米級(jí)(如≤1μm),滿足樣品定位需求。

部分平臺(tái)(如E1-T系列)采用非接觸式直線電機(jī)和光學(xué)編碼器,將重復(fù)定位精度提升至500nm以下,適用于納米級(jí)操作。

2.Z軸旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)

繞垂直軸(Z軸)手動(dòng)或電動(dòng)旋轉(zhuǎn),角度范圍通常為±90°,調(diào)節(jié)精度可達(dá)0.1°,用于調(diào)整樣品方向以匹配載玻片上的材料。

3.傾斜調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)

繞X軸和Y軸手動(dòng)調(diào)節(jié)傾斜角(如±2°),補(bǔ)償基底不平整度,確保樣品與載玻片平行接觸,減少轉(zhuǎn)移過程中的褶皺或裂紋。

4.輔助功能模塊

加熱系統(tǒng):樣品臺(tái)附帶加熱功能(溫度范圍0-240℃),精度±0.1-0.5℃,支持真空吸附樣品時(shí)的原位加熱,適用于需要熱處理的材料(如石墨烯、硫化鉬)。

真空吸附:通過真空泵(流量35-50L/min)固定樣品,防止轉(zhuǎn)移過程中移位,吸附開關(guān)由電磁閥控制。

風(fēng)冷系統(tǒng):快速冷卻樣品臺(tái),縮短實(shí)驗(yàn)周期。


二、關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)對(duì)比

參數(shù)    OWTS-01E1-TLMT-B

XY行程13mm20mm20mm

分辨率≤1μm0.002mm(2μm)未明確標(biāo)注

Z軸旋轉(zhuǎn)手動(dòng),任意角度手動(dòng),±90°(精度0.1°)手動(dòng),±90°(精度0.1°)

傾斜調(diào)節(jié)水平傾斜角-10~10°±2°±2°

加熱溫度0-240℃(精度±0.5℃)0-240℃(精度±0.1℃)未明確標(biāo)注

真空吸附支持,真空泵50L/min支持,真空泵35L/min支持

顯微鏡配置10×、20×物鏡5×、20×超長工作距離物鏡未明確標(biāo)注


三、典型應(yīng)用場(chǎng)景

1.二維材料異質(zhì)結(jié)制備

通過四軸調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)單層材料(如石墨烯、二硫化鉬)的精準(zhǔn)堆疊,構(gòu)建范德華異質(zhì)結(jié),研究其電子輸運(yùn)性質(zhì)或光響應(yīng)特性。

示例:制備h-BN/Graphene/h-BN三明治結(jié)構(gòu),需控制各層角度和堆疊順序。

2.魔角超導(dǎo)研究

旋轉(zhuǎn)襯底載物臺(tái)調(diào)整雙層石墨烯的扭轉(zhuǎn)角至1.1°(魔角),觀察超導(dǎo)現(xiàn)象,要求角度調(diào)節(jié)精度≤0.1°。

3.空間反演對(duì)稱性破缺研究

通過傾斜調(diào)節(jié)改變樣品與載玻片的相對(duì)角度,引入對(duì)稱性破缺,研究其對(duì)材料光電性能的影響。

4.干法/濕法轉(zhuǎn)移工藝

干法轉(zhuǎn)移(如PDMS剝離法)依賴真空吸附固定樣品,避免溶液污染;濕法轉(zhuǎn)移需加熱促進(jìn)溶液揮發(fā),減少殘留。


四、顯微鏡樣品二維平臺(tái)轉(zhuǎn)移四軸可調(diào)襯底載物臺(tái)選型建議

1.精度需求

若需納米級(jí)操作(如魔角超導(dǎo)研究),優(yōu)先選擇E1-T系列(重復(fù)定位精度500nm以下)。

常規(guī)二維材料轉(zhuǎn)移可選用OWTS-01或LMT-B系列(分辨率≤1μm)。

2.功能擴(kuò)展性

需加熱功能時(shí),確認(rèn)溫度范圍和精度(如E1-T支持0-240℃,±0.1℃)。

若需在手套箱內(nèi)操作,選擇支持惰性氣體環(huán)境的型號(hào)(如E1-T可選配手套箱安裝)。

3.預(yù)算與品牌

國產(chǎn)平臺(tái)性價(jià)比高精度工藝已經(jīng)很成熟,適合預(yù)算有限的實(shí)驗(yàn)室。

進(jìn)口平臺(tái)精度高,但價(jià)格昂貴,適用于高要求研究。

4.售后服務(wù)

國產(chǎn)廠商能更好的提供安裝調(diào)試、操作培訓(xùn)及軟件升級(jí)服務(wù)。







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